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セミナースケジュール

Dec.11_15:30_Metrology & Inspectionの将来展望

日付 > Dec. 11
セミナーカテゴリ > 半導体製造技術
セミナーカテゴリ > 翻訳サポート

Metrology & Inspectionの将来展望

「見えない」を制する者が未来を制す 検査・計測の最前線

MIS[40]

2026/12/11(金) | 15:30 - 17:00

TechSTAGE SAKURA  会議棟 605-606会議室

無料
翻訳サポート

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※詳細はFAQをご確認ください。

AIの進化で高性能半導体の需要が急増し、先端半導体製造での品質確保と歩留まり向上を支える計測・検査技術の重要性が高まっています。Metrology & Inspection Summitでは産業界とアカデミアが現状、課題、将来を語ります。

※プログラムは都合により変更となる場合がございます。予めご了承ください。

プログラムアジェンダ

15:30 - 16:00
先端DRAM・HBMを支える計測・検査技術の進化と挑戦
成吉 康裕
マイクロン メモリ ジャパン
DRAM Technology Development
Director, Yield Technology Asia

AIの普及により先端半導体への需要は急速に拡大している。本講演では、その基盤を支える計測・検査・プロセス制御技術の進化に焦点を当て、AI活用による生産革新と、データ駆動型製造を実現する次世代計測技術の将来像を紹介する。

16:00 - 16:30
次世代パッケージング工程における検査・計測技術
上薗 秀正
レーザーテック
第一ソリューションセールス部
マネージャー

半導体のさらなる高性能化に向け、さまざまなデバイスにおいて、多層化・高積層化をはじめとする縦方向の集積技術の開発が進んでいる。こうした技術の進展により、検査・計測においても、従来とは異なる課題が生じている。本講演では、これらの課題に対応する検査・計測技術を紹介する。

16:30 - 17:00
テラヘルツ放射による半導体パラメータ抽出と応用
斗内 政吉
岡山大学
異分野基礎科学研究所
教授

半導体にフェムト秒レーザーを照射して、光電荷を励起すると、光電流が瞬時に流れ、テラヘルツ(THz)波として外部に放射される。そのTHz波を用いて分析するのがTHz放射分光である。一般的には、現象論的解釈ツールとして用いられているが、講演者は、様々な半導体パラメータの抽出と半導体工程管理に応用できることを提唱し、実践している。