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セミナースケジュール
Dec.10_15:00_半導体プロセス技術「拡散・注入」
日付 > Dec. 10
セミナーカテゴリ > 半導体製造技術
セミナーカテゴリ > 有料
参加費（税抜き価格）
| SEMI会員 | 一般 | 学生 | |
| 早割（10/7〜31） | 8,000円 | 16,000円 | 1,600円 |
| 通常（11/1〜） | 10,000円 | 20,000円 | 2,000円 |
※講演後SEMI University（Eラーニング）の1か月無料視聴リンクをご案内（参加者限定）
※講演資料「半導体プロセス教本」付き（先着順・予定数に達し次第終了）
- お申込み後のキャンセル・変更・および返金は一切お受けしておりません。お申込みの前に必ずこちらの確認事項をご一読ください。
- 学生の方は来場登録の方法が異なります。こちらの内容を事前にご確認の上、お申込みください。
若手技術者の方必見！拡散・注入のプロセスの基礎から最先端まで分かり易く解説した技術講座。
※プログラムは都合により変更となる場合がございます。予めご了承ください。
プログラムアジェンダ
15:00 - 17:00
半導体プロセス技術 拡散・注入
井上 真雄
ルネサス エレクトロニクス
プロセス生産技術統括部
シニアダイレクター
半導体の基礎について話をした後、半導体プロセスとして、酸化、拡散、イオン注入、LPCVDという４つの要素技術に関して説明する。それぞれのプロセス技術においては、その基となる理論を説明し、実際に用いられている装置やデバイスへの適用例などを紹介する。