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セミナースケジュール
Dec.10_13:10_半導体プロセス技術「洗浄」
日付 > Dec. 10
セミナーカテゴリ > 半導体製造技術
セミナーカテゴリ > 有料
参加費（税抜き価格）
| SEMI会員 | 一般 | 学生 | |
| Early Bird（10/7〜31） | 8,000円 | 16,000円 | 1,600円 |
| 通常（11/1〜） | 10,000円 | 20,000円 | 2,000円 |
※講演後SEMI University（Eラーニング）の1か月無料視聴リンクをご案内（参加者限定）
- お申込み後のキャンセル・変更・および返金は一切お受けしておりません。お申込みの前に必ずこちらの確認事項をご一読ください。
- 学生の方は来場登録の方法が異なります。こちらの内容を事前にご確認の上、お申込みください。
若手技術者の方必見！洗浄のプロセスの基礎から最先端まで分かり易く解説した技術講座。
※プログラムは都合により変更となる場合がございます。予めご了承ください。
プログラムアジェンダ
13:10 - 14:40
半導体製造を支える洗浄技術
岩畑 翔太
SCREENセミコンダクターソリューションズ
R&D戦略統轄部, アライアンス推進部, 先端プロセス開発課
課長
半導体製造において洗浄工程は歩留まりを左右する重要なプロセスである。本講演では、パーティクル・金属・有機物などの除去対象と、洗浄薬液や物理洗浄の基本原理を解説する。さらに、微細化や三次元化の進展に伴って変化する洗浄技術の役割を紹介し、今後の技術動向や展望について概説する。