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セミナースケジュール

Dec.10_11:45_PFAS対策最前線🌿

日付 > Dec. 10
セミナーカテゴリ > サステナビリティ
セミナーカテゴリ > 政策・市場
セミナーカテゴリ > 翻訳サポート

PFAS対策最前線🌿

半導体産業の挑戦 

AIS[40]

2026/12/10(木) | 11:45 - 13:00
TheSUMMIT[20]会議棟7階 国際会議場

無料
翻訳サポート

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※詳細はFAQをご確認ください。

PFOAなど一部のPFASの長期残留性を契機に、欧米では、多様なPFASを一括して捉えるグルーピングに基づく規制の動きが広がっており、製造プロセスでPFASの使用が不可欠な半導体産業では、大きな戸惑いが生じています。本セッションでは、産官学が連携してPFASをめぐる課題への解決策を見いだし、持続可能な社会と半導体産業のさらなる発展を両立するために果たすべき役割と、その道筋について議論します。

※プログラムは都合により変更となる場合がございます。予めご了承ください。

プログラムアジェンダ

セッションチェア:
真白 すぴか(SEMI PFAS Initiative)
11:45 - 12:00
SEMI及び半導体業界におけるPFAS対策の動向
Supika Mashiro
真白 すぴか
SEMI PFAS Initiative
Co-Leader

PFAS使用の削減や管理強化を目指すSEMI内外の半導体業界の取り組みを俯瞰するとともに、EUなどのPFAS規制提案に対するSEMIの対応について紹介します。

12:00 - 12:15
SIPS Japan PFAS WG(1) 実態把握SGの活動について
Naoya Hama
濱 尚矢
東京エレクトロン
テクノロジービジョン&環境ストラテジー部業界戦略推進グループ
グループリーダー

SIPS日本部会のPFASワーキンググループにおける実態把握サブグループ及び回収・破壊等に関するサブグループの活動について報告します。半導体製造におけるPFASの使用実態や排出経路を整理するとともに、回収・濃縮・破壊技術の動向や、業界におけるベストプラクティス策定に向けた検討状況について紹介します。

 
SIPS Japan PFAS WG(3) 回収・破壊等に関するSGの活動について
Ooshita Shinnsuke
大下 真介
ダイキン工業
化学事業部 企画部
渉外担当課長

SIPS日本部会のPFASワーキンググループにおける実態把握サブグループ及び回収・破壊等に関するサブグループの活動について報告します。半導体製造におけるPFASの使用実態や排出経路を整理するとともに、回収・濃縮・破壊技術の動向や、業界におけるベストプラクティス策定に向けた検討状況について紹介します。

12:15 - 12:30
SIPS Japan PFAS WG(2)リサイクルSGの活動について
淀川 正英
AGC
化学品カンパニーPR推進室
技術共創推進GL

SIPSの日本部会PFASワーキンググループにおけるリサイクルサブグループの活動について報告します。リサイクルSGでは昨年、フッ素循環に関する業界横断的活動を起草し、循環フッ素社会の実現を提案してきました。昨年まとめた日本の実効的ベストプラクティスの例示と回収課題の特定について、本年はさらに深堀してきました。今回はその進捗に関して報告します。

12:30 - 12:45
PFAS-AI WAVEBASE(仮)
TBA
山下 信義
国立研究開発法人 産業技術総合研究所
TBA
青柳 裕一
トヨタ自動車
12:45 - 13:30
Stefano Ramundo Orlando
Stefano Ramundo Orlando
Manager
Advocacy and Public Policy
SEMI Europe