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セミナースケジュール
Dec.9_13:00_半導体プロセス技術「リソグラフィ」
日付 > Dec. 9
セミナーカテゴリ > 半導体製造技術
セミナーカテゴリ > 有料
参加費（税抜き価格）
| SEMI会員 | 一般 | 学生 | |
| Early Bird（10/7〜31） | 8,000円 | 16,000円 | 1,600円 |
| 通常（11/1〜） | 10,000円 | 20,000円 | 2,000円 |
※講演後SEMI University（Eラーニング）の1か月無料視聴リンクをご案内（参加者限定）
※講演資料「半導体プロセス教本」付き（先着順・予定数に達し次第終了）
- お申込み後のキャンセル・変更・および返金は一切お受けしておりません。お申込みの前に必ずこちらの確認事項をご一読ください。
- 学生の方は来場登録の方法が異なります。こちらの内容を事前にご確認の上、お申込みください。
若手技術者の方必見！リソグラフィのプロセスの基礎から最先端まで分かり易く解説した技術講座。
※プログラムは都合により変更となる場合がございます。予めご了承ください。
プログラムアジェンダ
13:00 - 16:00
リソグラフィ
遠藤 政孝
Eリソリサーチ
代表
リソグラフィの基礎と先端技術を解説します。露光、マスク、レジスト、レジストプロセスについて、基礎を最新の技術展開も含めて説明します。液浸リソグラフィ、ダブル/マルチパターニング、EUVリソグラフィ、自己組織化（DSA）リソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィの各先端リソグラフィ技術について、ロードマップ、最新動向も含めて説明します。