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セミナースケジュール
Dec.18_13:00_半導体プロセス技術「拡散・注入」
カテゴリー > 半導体技術
カテゴリー > Dec. 18
カテゴリー > 有料
参加費（税抜き価格）
| SEMI会員 | 一般 | 学生 | |
|
Early Bird（9/17〜10/31） ※オンライン対象外 |
8,000円 | 16,000円 | 1,600円 |
| Regular Price（11/1〜） | 10,000円 | 20,000円 | 2,000円 |
※講演資料 半導体プロセス教本（冊子）付き
- お申込み後のキャンセル・変更・および返金は一切お受けしておりません。お申込みの前に必ずこちらの確認事項をご一読ください。
- 学生チケットをお申込みの方は、当日会場にて学生用来場者バッジおよび学生証の確認をさせて頂く場合がございます。「学生来場登録」ページを確認の上、お申込みください。
若手技術者の方必見！拡散・注入のプロセスの基礎から最先端まで分かり易く解説した技術講座。
※プログラムは都合により変更となる場合がございます。予めご了承ください。
プログラムアジェンダ
13:00 - 15:00
半導体プロセス技術「拡散・注入」
井上 真雄
ルネサス エレクトロニクス
プロセス成膜技術部
ルネサス エレクトロニクス
半導体の基礎について話をした後、半導体プロセスとして、酸化、拡散、イオン注入、LPCVDという４つの要素技術に関して説明する。それぞれのプロセス技術においては、その基となる理論を説明し、実際に用いられている装置やデバイスへの適用例などを紹介する。