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セミナースケジュール
Dec.17_13:00_半導体プロセス技術「リソグラフィ」
カテゴリー > 半導体技術
カテゴリー > Dec. 17
カテゴリー > 有料
参加費（税抜き価格）
| SEMI会員 | 一般 | 学生 | |
|
Early Bird（9/17〜10/31） ※オンライン対象外 |
8,000円 | 16,000円 | 1,600円 |
| Regular Price（11/1〜） | 10,000円 | 20,000円 | 2,000円 |
※講演資料 半導体プロセス教本（冊子）付き
- お申込み後のキャンセル・変更・および返金は一切お受けしておりません。お申込みの前に必ずこちらの確認事項をご一読ください。
- 学生チケットをお申込みの方は、当日会場にて学生用来場者バッジおよび学生証の確認をさせて頂く場合がございます。「学生来場登録」ページを確認の上、お申込みください。
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※プログラムは都合により変更となる場合がございます。予めご了承ください。
プログラムアジェンダ
13:00 - 16:00
リソグラフィ
遠藤 政孝
Eリソリサーチ
代表
リソグラフィの基礎と先端技術を解説します。露光、マスク、レジスト、レジストプロセスについて、基礎を最新の技術展開も含めて説明します。液浸リソグラフィ、ダブル/マルチパターニング、EUVリソグラフィ、自己組織化（DSA）リソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィの各先端リソグラフィ技術について、ロードマップ、最新動向も含めて説明します。